ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。

ITO靶材回收的必要性

1. 资源稀缺：铟为稀有金属，资源有限，价格昂贵。

2. 成本控制：回收废旧ITO靶材可降低企业原材料采购成本。

3. 环保要求：减少废弃物排放，符合绿色生产理念。

ITO靶材回收流程：

1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。

2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层

3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层

4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素

5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物

6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途

随着科技的飞速发展，ITO靶材的需求量持续增长。然而，ITO靶材的生产过程中需要消耗大量的铟资源，而铟是一种稀有的有色金属，全球储量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不仅有助于节约资源，还能减少环境污染，实现可持续发展。