ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。

闭环回收带来的不仅是环保效益：

供应链：降低对原生铟矿进口依赖，抵御价格波动风险。

显著降本：再生铟成本可低于原生铟30%以上，靶材企业毛利率提升。

品牌增值：满足苹果、三星等巨头对再生材料比例的硬性要求。

技术壁垒：分离提纯工艺构成核心竞争力。

ITO靶材回收流程：

1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。

2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层

3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层

4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素

5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物

6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途

ITO靶材主流回收技术：

机械物理分离：适合较厚靶层，回收效率高。

湿法化学回收：利用酸碱进行溶解分离，适合大批量废靶材。

热处理工艺：部分回收方案采用高温分离，能耗较大。