ITO靶材的基本介绍：

主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）

应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等

靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材主流回收技术：

机械物理分离：适合较厚靶层，回收效率高。

湿法化学回收：利用酸碱进行溶解分离，适合大批量废靶材。

热处理工艺：部分回收方案采用高温分离，能耗较大。

从电子废物和废ITO靶材等废物来源中回收氧化铟是铟回收的一个重要方面。从这些废源中回收氧化铟可以通过各种工艺实现，包括化学处理、溶剂萃取和离子交换，回收的氧化铟可用于生产各种半导体器件，从而减少对新铟资源的需求，并将铟开采对环境的影响降至。

随着科技的飞速发展，ITO靶材的需求量持续增长。然而，ITO靶材的生产过程中需要消耗大量的铟资源，而铟是一种稀有的有色金属，全球储量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不仅有助于节约资源，还能减少环境污染，实现可持续发展。