ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。

铟属稀有金属,是一种重要的电子工业材料,在高技术领域有着广泛的应用,主要集中在半导体、透明导电涂层、电子器件、荧光材料、金属有机物等方面。它在地壳中非常稀有而且分散,又称之为稀散金属,铟在地壳中的丰度很低,多种文献报道不一,普遍认为仅011μg/g,至今以其为主要成分的矿床尚未发现,它通常以微量(01005%)的组分共生于与其性质类似的锌、铅、铜和锡等矿物上,一般是从锌、铅、铜和锡等重金属冶炼的烟尘、熔渣中回收生产。

ITO靶材的基本介绍：

主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）

应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等

靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）

氧化铟锡(ITO)靶材广泛应用于平板显示器和太阳能电池的生产，在ITO目标使用了一段时间后，将其替换为新的目标，用过的ITO靶含有大量的铟，可以通过各种工艺回收。