成熟闭环流程包括：

机械剥离：物理分离靶材与金属背板。

溶解富集：酸溶（如盐酸）将铟、锡浸出，固液分离。

铟锡深度分离：

选择性沉淀：控制pH值分步沉淀锡、铟化合物。

溶剂萃取：P507等萃取剂优先萃铟，实现铟锡分离，回收率>95%。

高纯铟制备：萃取液反萃 → 电解/置换得粗铟 → 真空蒸馏/区域熔炼 → 4N以上精铟。

再生靶材制造：精铟氧化 → 与氧化锡混合 → 成型烧结 → 新ITO靶材。

产业意义：从成本中心到价值引擎

铟属稀有金属,是一种重要的电子工业材料,在高技术领域有着广泛的应用,主要集中在半导体、透明导电涂层、电子器件、荧光材料、金属有机物等方面。它在地壳中非常稀有而且分散,又称之为稀散金属,铟在地壳中的丰度很低,多种文献报道不一,普遍认为仅011μg/g,至今以其为主要成分的矿床尚未发现,它通常以微量(01005%)的组分共生于与其性质类似的锌、铅、铜和锡等矿物上,一般是从锌、铅、铜和锡等重金属冶炼的烟尘、熔渣中回收生产。

ITO靶材回收市场需求持续增长，尤其在显示面板和光伏行业。铟价高企，促使更多企业关注废靶材的回收利用。随着技术进步，回收工艺趋于环保。

常见问题答疑：

1. 废靶材回收价格如何计算？

主要根据靶材剩余铟锡含量、市场行情、回收工艺等因素浮动。

2. 回收的铟锡纯度能否满足再次制靶需求？

取决于回收及精炼工艺，多数高品质回收企业可将纯度提升至制靶要求。

3. 回收周期多久？

一般为12周，具体视回收量和工艺流程而定。

从用过的ITO靶材中回收氧化铟包括几个步骤，包括溶解、沉淀和焙烧。首先将目标材料溶解在盐酸中，盐酸溶解氧化铟，然后加入氢氧化钠从酸性溶液中析出氧化铟。生成的氢氧化铟然后在高温下焙烧得到氧化铟。